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光催化结构及其制备方法[发明专利]

2024-08-26 来源:六九路网
专利内容由知识产权出版社提供

专利名称:光催化结构及其制备方法专利类型:发明专利

发明人:王营城,金元浩,肖小阳,张天夫,李群庆,范守善申请号:CN201910075219.0申请日:20190125公开号:CN111482149A公开日:20200804

摘要:本发明涉及一种光催化结构,该光催化结构包括一基板、一光催化活性层、以及一金属层。所述基板、光催化活性层和金属层依次层叠设置。所述基板包括一基底以及多个设置于该基底上的图案化的凸起。所述图案化的凸起包括多个凸条交叉设置形成网状结构,从而定义多个孔洞。所述多个凸条的交叉处为一体结构。所述光催化活性层设置在图案化的凸起的表面。所述金属层包括多个纳米颗粒,所述纳米颗粒设置在光催化活性层远离所述基板的表面。

申请人:清华大学,鸿富锦精密工业(深圳)有限公司

地址:100084 北京市海淀区清华大学清华-富士康纳米科技研究中心401室

国籍:CN

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